XT5402系列高低温试验箱
 特别设计动态恒温控制系统,整个量程范围的温度精确可控,佳恒温波动度达到+0.1℃。适-60…+90℃温度范围的样品保存与培养实验、温度处理与老化实验及环境条件实验等。  数字显示设置温度和实际温度,设置和显示分辨力0.1℃。  自由设定的制冷压缩机控制模式:连续制冷加热补偿恒温模式(ON)、压缩机开关控制模式(NF)和压缩机关闭工作模式(OFF),适合于不同的应用需要。  特别设计的风道式循环通风方式,确保工作室内部风力分
WZM系列机械搅拌平行高压反应釜
WZM系列釜特点:固定釜头,大扭矩,釜体及加热炉可选配自动或手动升降。为WZ系列釜多台平行组合。控制器可以实现对反应釜的加热、冷却、搅拌、程序编程、数据采集等诸多控制功能。
等离子清洗机
质量流量计桌面小型500W等离子清洗机,在真空腔体里,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面.以达到清洗目的
BehrS系列凯氏定氮仪
贝尔公司的定氮仪采用先进的微机智能控制,一键式设计节省您的时间,完全按照凯氏原理设计,仪器稳定可靠,成本低,充分保证了结果的准确性和操作人员的安全性。是食品试验室必不可少的分析仪器。贝尔公司提供从S1、S2、S3、S4和S5等多种型号满足您不同程度的分析需要。
WZCN定制实验室反应釜
WZCN定制实验室反应釜为在WZC系列反应釜基础上进行定制改动,主要为大功率磁子搅拌,液晶显示控制器可以256段程序控温,釜内和釜壁双温控,加热功率0%-100自行可调节。全不锈钢和铝合金氧化耐腐蚀机身。高压反应釜主要应用于化工和材料研究中需要搅拌的实验,可以配备压
反应离子刻蚀(RIE)/沉积(PEVCD)等离子处理系统
  产品介绍:BM8-II反应离子刻蚀(RIE)/沉积(PEVCD)等离子处理系统、反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)系统用于反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)的等离子处理系统。BM8-II是一款定义反应离子
